euv光阻劑、光酸反應、日本光阻劑在PTT/mobile01評價與討論，在ptt社群跟網路上大家這樣說

euv光阻劑關鍵字相關的推薦文章

半導體業者表示，光阻劑是半導體微影製程中最關鍵的材料，依曝光的光源可分為紫外光（UV）、深紫外光（DUV）和極紫外光（EUV）三種，搭配g-line、i-line、 ...

光阻劑通常使用在紫外光波段或更小的波長(小於400奈米)進行曝光。根據使用的不同波長的曝光光源，如KrF（248nm），ArF（193nm）和EUV（13.5nm），相應的光阻 ...

依曝光的光源不同，光源可區分為紫外線(UV)、深紫外線(Deep UV；DUV)和超紫外線(Extreme UV；EUV)三種。和紫外線搭配的為g-line(436nm)和i-line(365nm)光 ...

如圖3所示，雖然這改善了局部CD均勻度(LCDU)，但它會顯著影響EUV曝光機的生產力。雖然，以足夠的劑量來操作曝光機，可改善光阻劑解析度對曝光機生產量的 ...

今年年初，EUV 金屬氧化物光阻劑公司Inpria Corporation 宣布在C 輪募資中獲得多家投資者提供的3,100 萬美元資金。這些投資者由光阻劑製造商也是Inpria 的現有投資 ...

該公司將加強極紫外光(EUV) 光阻劑的生產，可用於生產5 奈米或更先進的晶圓製造。作為半導體材料投資計劃的一部分，富士軟片將在其靜岡縣的工廠投資45 億 ...

EUV曝光機的量產帶動了新一輪的EUV供應鏈的發展，包含EUV光阻劑、EUV光罩、EUV pellicle等。ASML則扮演了EUV供應鏈領頭羊的角色，各家供應商無不競相 ...

在台積電2019年報列出的光阻劑供應商們，有3家已經或正計畫投入最高階EUV光阻劑供應，皆為日本業者，包括領導品牌東京應化工業、信越化學（打算來台生產） ...

當半導體進入10奈米製程時，開始採用極紫外線(EUV-Extreme Ultraviolet)曝光，為了彌補專用曝光機的功能不足，轉由光阻劑下功夫，EUV用光阻劑成為下 ...

日本EIDEC國家計畫(全名：極紫外光微影基礎設施研發中心)，主要與日廠合作的研發中心。曾經於2015年開發出新型光阻劑，加速10奈米製程進展的重大突破。