汽車零件保養懶人包

去光阻液成分、光阻pr、光阻劑危害在PTT/mobile01評價與討論,在ptt社群跟網路上大家這樣說

去光阻液成分關鍵字相關的推薦文章

去光阻液成分在Photoresist stripper(光阻剝離劑, NMP Type) - 產品項目的討論與評價

NMP,DMSO,MEA三成分為傳統去光阻液所採用,因為每家公司使用狀況不一樣,有的須添加金屬腐蝕抑制劑(Inhibitor),以防止受到鹼性溶劑腐蝕,有的則modify components, ...

去光阻液成分在乾膜光阻去除 - 弘塑科技股份有限公司的討論與評價

因為負光阻產生交連作用(Cross-linking),光阻比較不易去除,常用的光阻剝離劑(PR Stripper)為NMP (N-methyl-pyrrolidinone)。乾膜光阻去除(PR stripping)製程一般 ...

去光阻液成分在默克推出全新環保光阻去除有機溶劑| 新聞中心 - Merck KGaA的討論與評價

除了不含NMP,也不含二甲基乙酰胺(DMAC)、二甲基亞碸(DMSO)或四甲基氫氧化銨(TMAH)等成分。AZ ® 910去光阻溶劑現在已經上市,其他系列產品也將會隨即 ...

去光阻液成分在ptt上的文章推薦目錄

    去光阻液成分在負型用去光阻液 - 壬輝有限公司的討論與評價

    NS-5000系列是以高沸點之有機溶劑為配方基礎所開發之去光阻液,兩者均具有不易揮發、不會結冰、高閃火點等優異特性,使用上安全無虞,為無毒性之量產用藥劑,成份中均不含 ...

    去光阻液成分在去光阻液(Stripper) - 台灣波律股份有限公司的討論與評價

    聚醯亞胺薄膜, PIS-509, 對聚醯亞胺薄膜極佳的清除效果 ; 聚醯亞胺薄膜(重工), PIS-523, 對頑固的老化聚酰亞胺薄膜具良好去除效果 ; 正&負光阻, PRS-124, 適用於橡膠材料 ; 正 ...

    去光阻液成分在TWI519910B - 光阻剝離液組成物及使用它之剝離光阻方法的討論與評價

    於根據本發明之光阻剝離液組成物中,由式4所表示之(b)醯胺化合物為強鹼性無質子極性溶劑,且非常有效於分解或溶解因乾蝕刻等而經劣化或交聯的光阻聚合物,以及與其他極性 ...

    去光阻液成分在光阻劑| Envure DV™ | SACHEM, Inc.的討論與評價

    光阻 劑應用的配方成分20 多年以來,SACHEM 一直是用於電子應用的顯影劑電子配方成分的領先供應商。大部分顯影劑已使用四甲基氫氧化銨(TMAH) 和四丁基氫氧化銨(TBAH) ...

    去光阻液成分在光電半導體製程中光阻剝離液之主成份分析 - 博碩士論文網的討論與評價

    本研究以建立主要成分為乙醇胺和二甲基亞碸的光阻剝離液之傅立葉轉換近紅外光光譜法測量條件及分析方法為目標,並以高效液相層析法和氣相層析法比對傅立葉轉換近紅外光光譜 ...

    去光阻液成分在光阻剝離液 - 達興材料的討論與評價

    Array製程為TFT-LCD之最主要技術,光阻剝離液在完成金屬或半導體薄膜線路之蝕刻 ... 此款光阻剝離液特別針對銅/鉬導線之蝕刻製程後之光阻去除,藉由剝離液使附著於銅導 ...

    去光阻液成分在高科技產業高沸點製程廢氣調查技術研究 - 國立交通大學機構典藏的討論與評價

    包含光阻→曝光→顯影等步驟,其中會使用光阻劑(成份為樹脂、感. 光劑、稀釋溶劑)與去光阻液等化學品;擴散製程是以化學溶劑除去. 晶圓表面的粉塵、金屬污染或光阻劑, ...

    去光阻液成分的PTT 評價、討論一次看



    更多推薦結果