脈衝雷射沉積、脈衝雷射沉積、Laser ablation在PTT/mobile01評價與討論，在ptt社群跟網路上大家這樣說
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脈衝雷射沉積在脈衝雷射沉積- 維基百科，自由的百科全書的討論與評價
於脈衝雷射沉積的過程中，雷射的能量被靶材吸收之後，能量首先激發靶材內部的電子躍遷，之後再轉成熱能等使靶材汽化形成電漿態，於電漿雲中，包含分子、原子、電子、離子、 ...
脈衝雷射沉積在脈衝雷射沉積(PLD) 在鍍膜之應用簡介的討論與評價
PLD 最重要的特色,是沉積膜保留了靶的. 化學計量成分(Stoichiometry)。這是由於脈衝雷射照射(Pulsed Laser Irradiation),使靶表面的. 加熱速率(Heating Rate)極高(>10 ...
脈衝雷射沉積在利用脈衝雷射沉積法製備氧化鋅薄膜及特性研究指導教授的討論與評價
脈衝雷射沉積 （Pulsed Laser Deposition;PLD）系統有許多的優點，例如：具有高. 鍍膜速率、異質多成份化學計量（stoichiometry）組成易控制、所製鍍之薄膜的. 成分比例幾乎 ...
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脈衝雷射沉積在脈衝雷射剝蝕沈積儀器使用步驟的討論與評價
z-factor 校正：首先於基板沉積一定量的時間或發數，再將基板拿去α-stepper. 作量測得到實際膜厚；接著將sensor 放在基板的位置，再以相. 同的條件沉積。完成後，調整膜厚 ...
脈衝雷射沉積在發展先進脈衝雷射沉積技術並應用於製作功能性材料的討論與評價
在本論文中，經由控制雷射靶材交互作用與電漿環境氣體交互作用，我們開發了脈衝雷射沉積技術應用於製作功能性材料的潛力，例如利用超短脈衝雷射製做了高指向性且熱不 ...
脈衝雷射沉積在脈衝雷射沉積法成長非極性摻雜鋁之氧化鋅磊晶薄膜於R面(1 ...的討論與評價
本論文使用脈衝雷射沉積法(pulsed laser deposition，PLD)於r面藍寶石(sapphire)基板上成長摻雜鋁之氧化鋅(AZO)非極性(11-20)磊晶薄膜，膜厚約為200-500nm。
脈衝雷射沉積在發展先進脈衝雷射沉積技術並應用於製作功能性材料的討論與評價
在本論文中，經由控制雷射靶材交互作用與電漿環境氣體交互作用，我們開發了脈衝雷射沉積技術應用於製作功能性材料的潛力，例如利用超短脈衝雷射製做了高指向性且熱不穩定性 ...
脈衝雷射沉積在脈衝雷射蒸鍍法製備氧化鈥鋅薄膜的探討：結構、光學與磁性研究的討論與評價
利用脈衝雷射沉積法製備摻鈥的氧化鋅薄膜(氧化鈥鋅薄膜)，鈥(Ho)的濃度為0到10%之間，沉積於c指向的藍寶石基板。脈衝雷射功率為2.0 J/cm2 ，鍍膜環境氧氣壓力為3×10^-1 ...
脈衝雷射沉積在脈衝雷射沉積(PLD（脈衝雷射沉積）) - 中文百科全書的討論與評價
脈衝雷射沉積 （Pulsed Laser Deposition，PLD），也被稱為脈衝雷射燒蝕（pulsed laser ablation，PLA），是一種利用雷射對物體進行轟擊，然後將轟擊出來的物質沉澱在 ...
脈衝雷射沉積在PLD[脈衝雷射沉積] - 中文百科知識的討論與評價
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